Updated 2006.12.01 #879

キーワード索引

  
 
  • ア行
  • ア:
  • IH加熱に適した鍋材
  • IH鍋
  • IH鍋と銀ペースト
  • IPSモード(液晶ディスプレー)
  • ITO(可視光の透過性)
  • ITO(キャリア密度と反射率)
  • ITO(金属との密着性)
  • ITO(銀ペーストの界面の不具合)
  • ITO (結晶構造)
  • ITO(格子定数のスズ濃度依存性)
  • ITO(酸化亜鉛薄膜の基板としての)
  • ITO (成膜条件と物性値の関係)
  • ITO(導電率,誘電率,透磁率)
  • ITO(特性改善)
  • 780. ITO(熱処理と着色)
  • 752. ITO(色素増感太陽電池電極としての)
  • ITO (熱伝導率)
  • ITO(熱膨張係数)
  • ITO(密着度)
  • ITO (溶解)
  • 青色波長でのアイソレータ材料
  • 亜鉛(光吸収係数)
  • 亜鉛置換フェライト(亜鉛が混入しないフェライトとの磁束密度の差異)
  • 赤い色(リンゴ)
  • 838. アクリルの熱伝導率
  • 朝日の色
  • 汗の分析(光吸収による)
  • 汗への排出(重金属の)
  • 「新しい磁気と光の科学」
  • 圧延材(Al)
  • 圧着端子の加熱による強度変化
  • 圧電セラミクス
  • 圧電性(ZnO)
  • アナターゼ(マイクロ波特性;ルチルとのちがい)
  • アナログ電子回路の現状と課題
  • アナログ通信とディジタル通信
  • アッベの屈折計
  • アモルファス磁性体
  • アモルファスシリコンの光化学
  • 834. アモルファスシリコン(pinダイオードのI-V特性)
  • 751. アモルファス半導体(キャリア濃度)
  • 798. アモルファス太陽電池のpin構造
  • 810. アモルファスライクな構造(絶縁性)
  • 818. アモルファス→結晶相転移(DVD)
  • 828. アモルファスAl2O3(アルミ酸化膜の耐食性)
  • 粗さ(金属表面の反射率)
  • 粗さの単位KA
  • アルゴンガス中の飽和水蒸気量
  • アルミニウム(板のマイクロ波反射率)
  • アルミニウム(板の反り)
  • 803. アルミニウム(板上でのネオジム磁石の運動)
  • アルミニウム(空気中に放置した塊の温度)
  • アルミニウム(合金の焼鈍後の腐食)
  • 828. アルミニウム(酸化被膜の耐食性)
  • アルミニウム(焼鈍材と圧延材)
  • アルミニウム(スチール缶と)
  • 804. アルミニウム(線の銅フレームとのボンディング)
  • 847. アルミニウムの熱伝導率測定
  • 779. アルミニウム(線膨張係数)
  • 821. アルミニウム(鋳造合金のポワソン比)
  • 771. アルミニウム(電気特性の面積による違い)
  • アルミニウム(パイプ)
  • 788. アルミニウム(薄膜の応力緩和速度)
  • アルミニウム(反射率)
  • アルミニウム(反射率のディップ)
  • アルミニウム(高い反射率の起源)
  • アルミニウム(UV反射率)
  • 844. アルミニウムの反射率(入射角による変化)
  • 760. アルミニウム(棒加工後の変形)
  • 759. アルミニウム(見分け方)
  • αコバルトとβコバルト
  • 812. アロットプロットについて
  • アンチモンSbの拡散(SiO2への)
  • アントシアン系色素
  • アンモニアの固有振動モード
  • イ:
  • EL(有機)
  • EPMA分析(焼結体)
  • 異方性物質のファラデー効果
  • 異方性結晶中の光の伝播
  • 色(宝石)
  • 色(ポリマー)
  • 色(暗所での見え方)
  • 色(塗料の白色・黒色)
  • 762. 異常光線の吸収係数(異方性・吸収性媒質)
  • 位相のずれ(反射の際の)
  • 位相の飛び(斜め入射反射)
  • 一般炭素鋼(高温でのヤング率)
  • 731. In2O3の誘電率
  • インダクタンスと磁気
  • ウ:
  • ウィレマイトの結晶構造
  • ウイレマイトの誘電率
  • 渦電流による電磁制動()
  • エ:
  • エアロゲルの熱輸送について
  • エッチャント(サファイア)
  • 734. エッチャント(PZT)
  • エチレンプロピレンゴムの誘電率
  • エバネッセント波について
  • エバネッセント波(表面プラズモンとの結合)
  • 846. MOD成膜したPMNZTの表面モルホロジー
  • エリプソメトリ(CVD膜)
  • エルビウムの発光機構(酸化ゲルマニウム中の)
  • 液晶ディスプレー(1)
  • 液晶ディスプレー(2)
  • 液晶ディスプレーのIPSモード
  • 液晶表示(黒くなった)
  • 液晶の交流駆動
  • 液晶の赤外特性
  • 液晶分子の配向(交流電場)
  • 液晶の表面電位
  • X線回折(シリコンの200禁制反射)
  • X線回折(消滅則)
  • X線回折(混相の)
  • X線吸収
  • 800. X線吸収端(金の)
  • X線吸収端の定義
  • X線結晶解析
  • XRDの配向性とは
  • X線と光の透過について
  • FEDの封止法
  • FDTD法(フォトニック結晶の解析)
  • SiO2へのSbの拡散
  • MBE(なぜ非平衡結晶成長なのか)
  • MOディスク
  • LEDの発光の原理
  • LED(紫外線340nmの)
  • 789. LSC を用いた試料測定の際の減衰率
  • LSI
  • 塩化ビニール(比透磁率)
  • 794. 塩化ビニール(弾性係数)
  • 863. 塩化ビニール(ヤング率とポワソン比)
  • 延性
  • 延性モード(脆性材料の切削)
  • 延伸した高分子(異方性)
  • 円二色性(ミュラー行列)
  • 円偏光(反射)
  • 円偏光フォトンと直線偏光フォトン
  • オ:
  • 黄錫鉱
  • 788. 応力緩和速度(アルミニウム薄膜)
  • オシロスコープと磁界
  • オーステナイトステンレス鋼の脆性
  • オーステナイトとマルテンサイト(761. 金属の熱処理による物性変化)
  • オパール(人工オパールと天然オパールの屈折率のちがい)
  • オパールの色とシリカ粒子のサイズ
  • オプティカルセメント(シンチレーションカウンタ用)
  • オペアンプ回路の飽和現象
  • 温室(ガラスの働き)
  • 温度依存性(半導体素子の)
  • 温度依存性(バンドギャップの)
  • 869. 温度勾配のある導体の電位差
  • 温度測定(熱電対による)
  • 温度変化(金属反射率の)
  • 音響的に優れた金属の加工法
  • 音波の縦波・横波
  • カ行
  • カ:
  • カー楕円率(ヒステリシス)
  • カーボン粒子(を含むゴムの誘電損失
  • カーボン(グラファイト)物性値
  • カーボン(赤外透過率)
  • カーボンの付着と剥離
  • カーボンブラックと黒鉛の違い
  • カーボンブラック中の金属の除去法
  • カーボンブラックの誘電特性
  • カーボンブラックの濡れ性
  • カーボンマトリックスとグラニュラー磁性体
  • 回折格子とプリズム
  • 回折格子と近接場
  • 回折効率
  • 界面電荷
  • 拡散反射
  • 853. 拡散反射の偏光性
  • 拡散反射を用いたバンドギャップ算出
  • 778. 重ね合わせの理(非線形回路では成立しない理由)
  • 硬さと延性
  • 硬さ(ショアーの)
  • 硬さ(シリコン)
  • 硬さ(と濡れ性)
  • 硬さ(と反発係数)
  • 活性化エネルギー(真性半導体の)
  • 840. 活性炭素繊維の光導電性は測定できるか
  • 841. カドミウムテルル(CdTe)の電析について
  • ガラス(高温での結晶化)
  • 790. ガラスの磁気複屈折
  • ガラス(赤外特性)
  • GaN(ヤング率)
  • 岩石と木材
  • 792. 干渉縞(スペクトル幅)
  • 干渉縞(薄膜)
  • 干渉縞(屈折率からを求めるには)
  • 間接遷移がわからない
  • 完全導体(超伝導のちがい)
  • 緩和弾性率
  • 顔料(チタン・クロム・アンチモン系)
  • キ:
  • 貴金属の色
  • 規則配列(なぜランダム配列より安定か)
  • 気体透過性(シリコーンの)
  • 希土類磁石の結晶場
  • 逆格子の参考書
  • 逆圧電効果と電気歪
  • 逆磁歪効果
  • キャリア濃度
  • キャリア濃度アモルファス半導体(アモルファス半導体)
  • キャリア濃度(金属)
  • 吸光係数(溶液の)
  • 吸光度測定(のための至適濃度)
  • 吸収(薄膜)
  • 吸収係数(シリコン、水)
  • 吸収端
  • 吸収端(X線)
  • 吸収端(とプラズマ振動数)
  • ギザギザ構造(からの反射光の色)
  • 強磁性体(ヤング率Eの低下:凾d効果)
  • 強誘電体の誘電率
  • 回折格子と近接場
  • 禁制反射(シリコンのX線回折)
  • 800. 金のX線吸収端
  • 870. 近赤外線(路面反射)
  • 金属(異常蒸発:電流導入端)
  • 金属の色(ドルーデ則、バンド間遷移)
  • 金属の色(貴金属)
  • 金属(キャリア濃度)
  • 金属(吸収端とプラズマ振動数)
  • 金属(接触電位差)
  • 金属(低周波における誘電率)
  • 金属(屈折率)
  • 金属(なぜ光る)
  • 金属(なぜさびる)
  • 金属(ITOとの密着性)
  • 金属(粘性係数と表面張力)
  • 791. 金属(可視光が透過する厚み)
  • 金属(光沢)
  • 813. 金属(水素吸蔵メカニズム)
  • 761. 金属(熱処理による物性変化)
  • 金属(熱膨張係数)
  • 金属(反射率)
  • 金属(金、銀、Ni、Al、Cu:反射率)
  • 金属(反射率の温度変化)
  • 金属(反射と表皮効果)
  • 金属(反射,ZnとAl)
  • 金属(光吸収)
  • 金属(太陽光を吸収して熱くなる訳)
  • 金属(中赤外における反射)
  • 金属(におい)
  • 金属(反射率,斜め入射)
  • 金属(半導体の合金化)
  • 797. 金属(複素屈折率)
  • 金属(有効質量)
  • 金属(誘電率)
  • 金属(誘電率の温度依存性)
  • 金属微粒子(プラズモン励起)
  • 金属微粒子(赤外光物性)
  • 金属結合
  • 金属結合について
  • 金属結合と共有結合
  • 金属結合の原子モデル
  • 金属酸化物薄膜の熱膨張係数
  • 金属材料(電気抵抗)
  • 773. 金属材料(マイクロ波焼結)
  • 金属素材(高い誘電率の)
  • 817. 金属探針(電場変調による電磁波発生)
  • 816. 金属通過センサ(残留応力付与による出力の変化)
  • 金属電極と半導体の合金化の結合エネルギー
  • 金属表面処理
  • 金属表面(酸化による変化)
  • 金メッキ端子と半田メッキ端子の接続部
  • 銀(固相接合)
  • 銀メッキの色(微小ビーズ)
  • 銀薄膜の酸素透過率
  • 銀パラジウムの物性値
  • 銀ペースト(IH鍋と)
  • 銀ペースト(高温での)
  • 銀メッキ(42合金)
  • ク:
  • 826. 空間電荷制限電流の温度依存性(半導体中の)
  • 空気(熱膨張係数)
  • 空気(小孔からのリーク)
  • 空気(ヤング率)
  • 空気圧による変形(密閉したプラスチック容器の)
  • 屈折
  • 屈折計(アッベの)
  • 屈折率
  • 屈折率(金属と絶縁体)
  • 屈折率(高屈折率、透明物質
  • 屈折率(シリカガラス、赤外)
  • 屈折率(シリコン)
  • 屈折率(ステンレス)
  • 屈折率(チタン)
  • 765. 屈折率(チタン,複素)
  • 屈折率(反射スペクトルと)
  • 屈折率(モル吸光度から求める)
  • 862. 屈折率測定(光学的異方性フィルム)
  • 屈折率分散
  • 屈折率分散(シリコーンゴムの)
  • 屈折率分散、粗表面を伴う多重干渉
  • グラニュラー磁性体(カーボンマトリックス)
  • グラファイト(ダイヤモンドとの違い)
  • グラファイトカーボン物性値
  • グラファイトの抵抗率
  • グラファイトの誘電率(εr)と損失角(tanδ)
  • 742. クラマースクローニヒ解析
  • クロム(スパッタ膜の最適膜厚)
  • クロム(降伏応力)
  • 823. Cr(プラズマ周波数)
  • 光の分散と群速度
  • 群論
  • ケ:
  • k-空間の物理的説明
  • 蛍光波長の励起波長依存性
  • 形状記憶合金(TiNiの状態図)
  • 結合エネルギー(金属電極と半導体の合金化の)
  • 結合角(水分子の)
  • 結晶構造(真鍮)
  • 結晶中のポテンシャル
  • 結晶場(希土類磁石の)
  • Geの非放物線パラメータ
  • 799. 原子吸光分析装置のデータのばらつき
  • 現像銀は何故黒いか
  • 原子と分子(電子状態の記号)
  • コ:
  • コイルの中に磁石
  • 815. コイル(磁束漏れの計算法)
  • 高圧ケーブルの劣化
  • 硬X線(軟X線とのちがい)
  • 高圧円筒容器の軸方向ののび
  • 光学異方性とスネルの法則
  • 光学定数
  • 光学吸収係数
  • 光学吸収端
  • 光学定数(磁性ガーネット)
  • 光学定数(酸化アルミニウムのnとk)
  • 光学定数(モリブデン)
  • 862. 光学的異方性フィルム(屈折率測定)
  • 光学的バンドギャップ
  • 光学フィルタ膜をコートした水晶板
  • 光学ローパスフィルタ用
  • 合金の仕事関数
  • 高屈折率透明物質
  • 光子と電波
  • 770. 鋼材(硬度測定)
  • 格子面間隔
  • 格子定数(鉄の相変態)
  • 構造色(昆虫)
  • 光速
  • 光速(物質中,波長依存性)
  • 735. 光弾性定数の単位
  • 光伝導(酸化チタンTiO2 1)
  • 光伝導(酸化チタンTiO2 2)
  • 光伝導スペクトル(シリコン)
  • 光伝導について
  • 光伝導の測定
  • 871. 光電流(pn接合)
  • 772. 硬度(窒化珪素)
  • 770. 硬度測定(鋼材の)
  • 光電変換材料
  • 降伏応力(クロム)
  • 降伏応力(ニッケル)
  • 鉱物の発光(温度依存性)
  • 高分子の異方性(延伸した・・)
  • 黒鉛(ダイヤモンドとの色のちがい)
  • 黒色(塗料)
  • 五酸化タンタル[Ta2O3](ヤング率)
  • 固相接合(銀)
  • コバルト(αとβ)
  • コバルト置換YIG
  • 775. コヒーレンス長(太陽光の)
  • ゴム(カーボン粒子を含む)の誘電損失
  • 固有振動数(鉄の)
  • 固有振動モード(アンモニア)
  • コランダム(ヤング率の温度依存性)
  • 785. コロイド結晶の作製(電気泳動法による)
  • 混相のX線回折
  • 昆虫(構造色)
  • コンデンサ(誘電体を含む)
  • サ行
  • サ:
  • 857. 細線に大きな電流を流すと切れるわけ
  • サイズモ式ピックアップ
  • さびる(金属)
  • サファイア(エッチャント)
  • サファイアの1850℃までの高温特性
  • 酸化亜鉛[ZnO](圧電性)
  • 酸化亜鉛[ZnO](n型の起源)
  • 酸化亜鉛[ZnO](赤外吸収)
  • 酸化亜鉛[ZnO](フォトルミネッセンス)
  • 725. 酸化亜鉛[ZnO]の光化学反応成長のための基板について
  • 酸化アルミニウム(nとk)
  • 酸化珪素(SiO2)へのSbの拡散
  • 酸化ゲルマニウム中のエルビウムの発光機構
  • 酸化しない金属ってあるの
  • 酸化チタン(III)
  • 酸化チタンTiO2( 光伝導 1)
  • 酸化チタンTiO2( 光伝導 2)
  • 861. 酸化チタン(バンドギャップ決定法)
  • 酸化ニッケル[NiO](p型の起源)
  • 782. 酸化ニッケル[NiO](誘電率)
  • 酸素透過率(銀薄膜の)
  • 777. 3dx2-y2、3dz2軌道の名前の由来
  • 酸の水溶液の誘電率
  • シ:
  • CDの虹色
  • CIS太陽電池におけるCdSの役割
  • CVDと真空
  • CVDラジカルの平均自由行程
  • CVD膜のエリプソメトリ
  • シート抵抗
  • シート抵抗(透過率との関係)
  • 733. シェラーの式について
  • 示温塗料
  • 磁界(オシロスコープ)
  • 紫外線(水中での減衰)
  • 紫外線LED
  • 紫外線吸収スペクトル(水の)
  • 835. 磁気異方性物質に旋光性が発現する理由
  • 磁気光学効果(測定)
  • 磁気光学効果の測定
  • 磁気光学効果(測定法)
  • 磁気光学効果(測定)
  • 磁気光学効果(反強磁性体)
  • 磁気光学効果のスペクトル(常磁性極限から導いた)
  • 色覚について
  • 色彩の見え方
  • 色素増感(太陽電池)
  • 色素増感太陽電池(対極の役割)
  • 磁気テープの層厚と入出力特性
  • 790. 磁気複屈折(ガラスの)
  • 磁区観察(微細規則配列格子のある時)
  • 磁区観察(方向性鋼板)
  • 磁区と結晶粒
  • 仕事関数(合金の)
  • 仕事関数(タンタルの)
  • 磁心材料の具備条件
  • 質量(空気と水の)
  • 磁性ガーネット(光学定数)
  • 868. 磁性材料(相転移)
  • 磁性材料(身近にある)
  • 磁性薄膜の光学測定
  • 磁性半導体(最近の話題)
  • 磁性フォトニック結晶1
  • 磁性フォトニック結晶2
  • 磁性フォトニック結晶における光局在
  • 自然酸化膜につて
  • 815. 磁束漏れの計算法(コイル)
  • 磁場(電磁波中の)
  • 至適濃度(吸光度測定のための)
  • 1/4波長板の偏光状態
  • 856. シャボン玉の物理
  • シャフトの輸送中の磁化
  • 10円銅貨の汚れ落とし
  • 重金属の汗への排出
  • 16進数
  • 周波数分散(誘電率)
  • 周波数分散(有機溶媒の誘電率;)
  • 樹脂封止での金属の強度
  • 酒石酸単結晶
  • シュブニコフ・ドハース(SdH)振動
  • 縮退半導体の静電遮蔽効果
  • 樹脂封止での金属の強度
  • 763. 準定常電流近似と変位電流
  • ショアーの硬さ
  • ショアー硬度(モース硬度を換算出来るか)
  • 状態図(Ti-Ni形状記憶合金)
  • 状態図(焼結法と)
  • 焼結体のEPMA分析
  • 焼結体の粒径(モリブデン)
  • 焼結法(と状態図)
  • 消光係数
  • 消光係数(シリコン)
  • 消光係数の意味
  • 873. 蒸着(母材と金属の密着メカニズム)
  • 焼鈍材と圧延材(Al)
  • 消滅則(X線回折)
  • 875. 食品安全性(18-8ステンレス)
  • ショットキー障壁を作る金属
  • Pd/Geはショットキーダイオードになるか
  • 729. ショットキーダイオード(P形半導体の)
  • 728. 金属の種類とショットキー接合
  • シリカガラスの赤外屈折率
  • シリコーン(気体透過性)
  • 801. シリコーンオイル(DSC曲線の解釈)
  • シリコーンゴムの屈折率分散
  • 854. シリコーンゴムの耐腐蝕性
  • Si-Alコンタクト
  • シリコンインゴット(ρb値の計算法)
  • シリコン(硬さ)
  • シリコン(屈折率)
  • シリコン(屈折率と消光係数)
  • シリコン(研削粉のpn分離)
  • シリコン(光伝導スペクトル)
  • シリコン(光の吸収係数)
  • 859. シリコン(純度)
  • シリコン[Si](単結晶の線膨張係数)
  • シリコン[Si]発光の反射(Si/SiO2/air構造における)
  • シリコンの物性値(1000℃における)
  • シリコン(化学処理後の高濃度ドープシリコン)に見られる不動態膜
  • シリコンの比抵抗(高温における)
  • シリコン(曲げ応力)
  • シリコン(ウェハーの赤外線スペクトル)
  • シリコン(と同等の熱膨張をもつ金属)
  • シリコン(熱酸化膜形成によるシリコンの消費)
  • シリコン(酸化厚膜の用途)
  • シリコン・アルミ(Si-Al)コンタクト
  • シリコン(マイクロ波誘電率と誘電損失)
  • シロキサンの吸着率(金属・樹脂に対する)
  • 磁歪について
  • 781. 真空蒸着中の真空度低下
  • 837. 真空蒸着の最適蒸着速度
  • 827. 真空中での水の凝固
  • 真空にするわけ
  • 真空の耐電圧
  • 真空の導電率
  • 真性半導体(活性化エネルギー)
  • 伸縮性(ポリブタジエン)
  • 736. 靱性(溶接影響部)
  • シンチレーションカウンタ用のオプティカルセメント
  • 真鍮の結晶構造
  • 真鍮の密度
  • 851. 侵入長(半導体への励起光の)
  • ス:
  • 879. スイッチ部材(ステンレスの導入)
  • 水晶(厚み測定:屈折率による)
  • 877. 水晶(剪断弾性係数)
  • 813. 水素吸蔵メカニズム(金属)
  • 774. 水中の電波伝搬
  • スズの高温でのふるまい
  • スチール缶
  • スチール缶とアルミ缶
  • ステンレス(屈折率)
  • 875. ステンレス(18-8)(食品安全性)
  • 879. ステンレス(スイッチ部材への導入)
  • 814. ステンレス(なぜ磁石につかないか)
  • ステンレス(不動態の抵抗)
  • ステンレス(マルテンサイト量の評価)
  • ステンレス鋼(耐酸性)
  • ステンレス鋼(オーステナイトの脆性)
  • 830. ステンレス(SUS316の熱膨張)
  • 726. ステンレス材(SUS321溶接後の磁化)
  • 776. ステンレス材SUS404の物性値
  • ステンレス鋼(焼け)
  • 839. ストロンチウムフェライトの物性値
  • スーパーボールがドアの動きを止める
  • スネルの法則(光学異方性と)
  • スパッタクロム膜の最適膜厚
  • 836. スパッタ装置の電源の極性
  • スパッタ膜(Fe)
  • スピネルフェライト
  • スピン演算子の固有値問題
  • スピンギャップ
  • スピン依存平均自由行程
  • 766. スペクトル幅(レーザ高調波)
  • 792. スペクトル幅(干渉縞)
  • セ:
  • 脆性(オーステナイトステンレス鋼)
  • 石英セル(分光光度計用)
  • 石英ファイバーとシリカファイバーの違い
  • 赤外光物性(金属微粒子)
  • 赤外吸収(ZnO)
  • 赤外透過率(カーボンの)
  • 793. 赤外分光特性(豚レバー)
  • 赤外特性(ガラスの)
  • 赤外線スペクトル(シリコンウェハーの)
  • 脆性材料(延性モードでの切削)
  • 整流作用
  • 接触角(水滴;表面モルフォロジー依存性)
  • 接触電位差(金属)
  • 接地用のSUS板
  • 810. 絶縁性(誘電体)
  • 絶縁体(光吸収)
  • 絶縁体(バンドギャップ)
  • セラミクス(マイクロ波焼結)
  • セラミック(マイクロ波透過)
  • 閃亜鉛鉱型GaNの熱膨張係数
  • 旋光性(トレハロースの立体構造)
  • 835. 旋光性(磁気異方性物質)
  • 遷移金属錯体(磁化率への軌道角運動量の寄与)
  • 877. 剪断弾性係数(水晶)
  • 779. 線膨張係数(アルミニウム)
  • 線膨張係数(シリコン単結晶)
  • ソ:
  • 872. 相図の見方
  • 相転移温度(HoFeO3)
  • 相変態(鉄)
  • 束縛励起子(束縛する力)
  • タ行
  • タ:
  • ダイヤモンドとグラファイトの違い
  • ダイヤモンドと黒鉛の色のちがい
  • ダイヤモンドの輝き(光の屈折と)
  • ダイヤモンドの熱膨張係数
  • 耐酸性(ステンレス鋼)
  • 耐電圧(真空の)
  • 798. 太陽電池(アモルファス,pin構造)
  • 太陽電池(CISセルにおけるCdSの役割)
  • 太陽電池の温度上昇による効率低下
  • 795. 太陽電池材料に関する質問
  • 太陽電池(色素増感)
  • 太陽電池(パネル)
  • 太陽電池の本
  • 775. 太陽光のコヒーレンス長
  • 多結晶シリコンの抵抗率のばらつき
  • 多重反射と干渉(薄膜の反射率)
  • 多重干渉(吸収性物質における)
  • 多重干渉(屈折率分散、粗表面を伴う)
  • 848. 弾性定数(数値計算)
  • 850. 炭化チタンTiC(格子定数)
  • 炭素の性質
  • 炭素の加熱(電子レンジによる)
  • 炭素の加熱(マイクロ波加熱)
  • 842. Q179「炭素のマイクロ波加熱」への質問
  • 炭素の物性値(グラファイトカーボン)
  • 845. 炭素鋼(熱膨張係数)
  • 炭素繊維複合材料の透磁率
  • 炭素繊維(繊維方向に垂直の物性値)
  • 炭素粒子(カーボン粒子を含むゴムの誘電損失)
  • 断線(電子部品の硫化による)
  • 田んぼのひび割れ
  • Ta2O5薄膜
  • 縦波弾性率とヤング率
  • 794. 弾性係数(塩化ビニール)
  • 865. 弾性係数測定の誤差
  • タンタルの仕事関数
  • チ:
  • 772. 窒化珪素(硬度)
  • 811. 窒化珪素(合成法)
  • Ti-Ni形状記憶合金(状態図)
  • チタンの屈折率
  • 765. チタンの複素屈折率
  • 850. チタンカーバイドTiC(格子定数)
  • チタン・クロム・アンチモン系の顔料
  • チタン酸バリウム(BaTiO3)多結晶の比誘電率
  • 780. 着色(ITOの熱処理による)
  • 柱状構造(薄膜の)
  • 中赤外(金属の反射)
  • 845. 中炭素鋼(熱膨張係数)
  • 超音波の速度
  • 超音波反射率(シリコン)、
  • 超硬合金の英訳
  • 超伝導ギャップとスピンギャップ
  • 超伝導体の浮上
  • ツ:
  • 通電性(無機材料の)
  • テ:
  • 801C. DSC曲線(シリコーンオイル)
  • 824. DVD-RAM記録層はAFMで観察できるか
  • 818. DVD-RAM材料の結晶工学
  • データのばらつき(熱電対による温度測定)
  • TEM波(導波管にを入射するとどうなるか)
  • TEM 波と静電磁界
  • 抵抗率(グラファイトの)
  • 700. 抵抗率(銅の液体ヘリウム温度における)
  • 鉄(固有振動数)
  • 鉄(相変態)
  • 825. 鉄(Fe)磁石の導電性
  • 鉄心材料
  • 鉄ニッケル(Fe-Ni)合金の飽和磁束密度
  • Fe(スパッタ膜)
  • 鉄・銅・真鍮の密度
  • デバイ温度(1次元格子)
  • デバイ温度と結合力
  • デバイ温度と物理量の関係
  • 凾d効果(強磁性体のヤング率Eの低下)
  • 3テルル化ビスマス(Bi2Te3)の誘電率
  • 841. テルル化カドミウム(CdTe)の電析について
  • 電界によるバンド間励起
  • 785. 電気泳動法によるコロイド結晶の作製
  • 電気抵抗熱劣化(焼結金属材料)
  • 767. 電源電圧の作り方によるトランス出力の違い
  • 電子緩和(バンド励起後の)
  • 電子状態の記号(原子と分子)
  • 電子レンジ(円筒型)
  • 電子レンジ(炭素の加熱)
  • 電子レンジ(水の加熱の原理)
  • 732. 電磁シールドにゴムは使えるか
  • 電析膜の吸収
  • 電析膜の光学的バンドギャップ
  • 電波(光子とのちがい)
  • 電磁制動(渦電流による)
  • 電磁誘導と磁石
  • 電磁波の電界測定
  • 電磁波中の磁場
  • 電磁誘導の起源(なぜコイルの中に磁石を入れるだけで、電気が生じるのですか)
  • 774. 電波伝搬(水中の)
  • 817. 電磁波発生(電場変調による金属探針からの)
  • 866. 伝熱面積(熱交換器)
  • 電流導入端子(金属の異常蒸発)
  • ト:
  • 銅の抵抗率(液体ヘリウム温度における)
  • 透過(X線と光)
  • 透過性(ITO,可視光)
  • 透過率(カーボン、赤外)
  • 透過率とシート抵抗
  • 透磁率(炭素繊維複合材料)
  • 透明磁性体
  • 透磁率が1でない物質の誘電率測定
  • 塗料の白色・黒色
  • 導電率(真空の)
  • トランジスタの破壊(逆バイアスでの)
  • 807. トランジスタの電流増幅の仕組み
  • ドルーデ則(金属の色)
  • トレハロースの立体構造と旋光性
  • トンボの眼の紫外線視感度
  • ナ行
  • ナ:
  • 斜めギザギザ構造(からの反射光の色)
  • 斜め入射の反射(複素数の屈折角)
  • 斜め入射反射(位相の飛び)
  • ナノ結晶シリコン(発光メカニズム)
  • ナノ粒子の光反射
  • ナノ領域(物性値の適用限界)
  • 鉛の密度
  • 鉛フリーハンダ(ヤング)
  • 軟X線(硬X線とのちがい)
  • ニ:
  • におい(金属の)
  • ニオブ酸リチウムの物性値
  • 2光子吸収(二次非線形分極率との関係)
  • 784. 2光子吸収(減衰率)
  • 二酸化炭素の自然界での分解
  •  二酸化珪素と炭素の誘電率
  • ニッケル(降伏応力)
  • ニッケル(透磁率の周波数特性)
  • ニッケル亜鉛フェライト(飽和磁化)
  • ニッケル酸化膜の用途
  • 786. ニッケルメッキの酸化
  • ヌ:
  • ぬれ上がり(半田)
  • 濡れ性
  • ぬれた石はなぜ黒い
  • ネ:
  • 803. ネオジム磁石(アルミニウム板上での運動)
  • 866. 熱交換器伝熱面積
  • 867. 熱サイクル(ハンダの物性変化)
  • 熱収縮
  • 熱設計(ハイブリッドIC)
  • 熱測定の際のダミーの選定基準
  • 熱抵抗について
  • 熱電効果について
  • 876. 熱電効果の論文の式の意味
  • 熱電対による温度測定(データのばらつき)
  • 熱伝導率
  • 838. 熱伝導率(アクリルの)
  • 847. 熱伝導率測定(アルミニウムの)
  • 783. 熱伝導性のよいポリエステル糸
  • 855. 熱伝導と誘電率
  • 熱膨張係数
  • 熱膨張係数(空気の)
  • 熱膨張係数(金属の)
  • 熱膨張係数(CrとITOの)
  • 熱膨張係数(金属酸化物薄膜)
  • 830. 熱膨張係数(ステンレスSUS316の)
  • 熱膨張係数(閃亜鉛鉱型GaN)
  • 熱膨張係数(ダイヤモンドの)
  • 845. 熱膨張係数(中炭素鋼)
  • 熱膨張(鉄、アルミ、ステンレスの)
  • シリコンと同等の熱膨張をもつ金属
  • 粘性係数(金属の)
  • 粘性の温度変化(水の)
  • 熱輸送(エアロゲル)
  • ノ:
  • ハ行
  • ハ:
  • BaFe12-2xCoxTixO19(磁気物性)
  • バイオセンサー(表面プラズモン共鳴)
  • 配管リーク(の許容値)
  • ハイブリッドICの熱設計
  • バイポーラトランジスタのhFE(=Ic/Ib)の温度依存性
  • 配向性
  • 白金黒
  • 白色
  • 864. 白色で近赤外吸収のある酸化物
  • 薄膜の吸収
  • 薄膜(磁性薄膜の光学測定)
  • 薄膜(反射率)
  • 発光(励起子)
  • 発光の温度依存性(鉱物)
  • 発光ダイオード(LED)(発光の原理)
  • 発光メカニズム(ナノ結晶シリコン)
  • 波長板(偏光状態)
  • 波動性(光)
  • バーチ・マーナガン(Birch-Murnaghan) の状態方程式
  • ハーフメタル
  • パラジウムの表面の曇り
  • 反磁性(磁化率)
  • 反射(位相のずれ)
  • 反射(斜め入射,位相の飛び)
  • 反射(円偏光)
  • 反射(拡散)
  • 反射(金属微粒子)
  • 反射(金属,ZnとAl)
  • 反射(金属、中赤外)
  • 反射(Si/SiO2/air構造におけるSi発光の)
  • 反射(ぬれた石)
  • 870. 反射(路面)(近赤外線)
  • 反射光の色(斜めギザギザ構造からの)
  • 反射スペクトル(と屈折率)
  • 878. 反射防止(モスアイ構造による)
  • 反射率(ITO, キャリア密度と)
  • 反射率(アルミニウム)
  • 反射率(アルミニウム、高い反射率の原因)
  • 反射率(アルミニウム、反射率のディップ)
  • 反射率(アルミニウム、UV)
  • 844. 反射率(アルミニウム,入射角による変化)
  • 反射率(金属)
  • 反射率(金、銀、Ni、Al、Cu)
  • 反射率(温度変化、金属)
  • 反射率(金属,斜め入射)
  • 空気/金/ガラスの反射率
  • 反射率(シリコンウェハー、斜め)
  • 反射率(金属の表面粗さとの関係)
  • 反射率(振幅反射率とエネルギー反射率)
  • 反射率(多層膜)
  • 反射率(薄膜)
  • 反射率(マンセル明度と)
  • 反射率(モリブデン)
  • 反射率測定(裏面反射防止)
  • 反強磁性体(磁気光学効果)
  • 867. ハンダ(熱サイクルによる物性変化)
  • 半田メッキ
  • 半田メッキ端子(金メッキ端子との接続部)
  • 半田(ぬれ上がり)
  • 半田(融点における抵抗率変化)
  • 半導体(誘電率)
  • 半導体(非線形電流電圧特性)
  • 851. 半導体(励起光の侵入長)
  • 半導体素子(温度依存性)
  • 半導体金属複合材料の光吸収
  • 829. パンチスルー現象
  • バンド間励起(電界による)
  • バンドギャップ(絶縁体の)
  • バンドギャップの温度依存性
  • 密度汎関数理論とバンドギャップ
  • バンド理論について
  • バンド励起後の電子緩和
  • 半波長板
  • 反発係数(硬さと)
  • 反発係数の算出
  • ヒ:
  • 846. PMNZT(MOD成膜)の表面モルホロジー
  • 871. pn接合の光電流
  • PZTのエッチャント
  • 光(光子と電波)
  • 光(光伝導)
  • 光(波動性と粒子性)
  • 光吸収(汗の分析は可能か)
  • 光吸収(金属による)
  • 光吸収(絶縁体)
  • 光吸収(熱発生)
  • 光吸収(薄膜)
  • 光吸収(半導体金属複合材料)
  • 光吸収係数(亜鉛)
  • 光のエネルギーの吸収・損失
  • 光の屈折
  • 光の屈折(とダイヤモンドの輝き)
  • 光散乱と吸収
  • 光触媒
  • 787. 光触媒について
  • 光測定(磁性薄膜)
  • 光の伝搬(誘電体中の)
  • 光の伝播(異方性結晶中の)
  • 光反射(ナノ粒子の)
  • 光の伝搬
  • 光の分散と群速度
  • 「光と磁気」(質問1)
  • 「光と磁気」(質問2)
  • 「光と磁気」(質問3)
  • 「光と磁気」(質問4)(プラズマエンハンスメントについて)
  • 「光と磁気」への質問5(誤植の指摘)
  • 852. 「光と磁気(改訂版第1刷)」第4章の誤植訂正
  • 「光と磁気(改訂版)」付録Cの式の導出
  • 光ファイバ(レイリー散乱)
  • 微細規則配列格子
  • ヒステリシス(カー楕円率による)
  • 非接触
  • 非線形カー効果転
  • 非線形屈折率(水の)
  • 非線形光学特性の評価法
  • 非線形磁気光学
  • 802. 非線形性(豆電球の)
  • 非線形磁気光学テンソル
  • 778. 非線形回路(重ね合わせの理が成立しない理由)
  • 二次非線形分極率と2光子吸収との関係
  • 比抵抗(グラファイトの)
  • 比抵抗(シリコンの高温における)
  • 比透磁率(塩化ビニール)
  • 比透磁率(膜厚依存性)
  • 比熱
  • 非平衡結晶成長(MBE)
  • 非放物線パラメータ(Geの)
  • 比誘電率
  • 809. 標準白色板を参照試料とした分光反射率測定
  • 標準電極電位(金より高い標準電極電位をもつ金属)
  • 表皮効果と金属の反射
  • 表皮効果とリアクタンス
  • 表皮効果のシミュレーション
  • 表面張力(金属の)
  • 表面電位(液晶の)
  • 表面プラズモン共鳴(Mie散乱と)
  • 820. 表面プラズモン分散式
  • 表面プラズモン励起
  • 表面プラズモンとエバネッセント波の結合
  • 表面プラズモンとエバネセント波
  • 表面プラズモン増強とエネルギー保存則
  • 表面プラズモン共鳴(バイオセンサー)
  • 表面プラズモンを理解するための本
  • 表面プラズモン共鳴(ロッド形微粒子分散系)
  • 860. 微粒子(消磁効果)
  • フ:
  • ファラデー効果(中赤外域の)
  • ファラデー効果(異方性物質の)
  • ファラデー効果はなぜ起きる
  • フィードバック回路
  • 796. フェライトガーネットについて
  • フェルミディラック分布
  • フォトダイオードの量子効率
  • フォトニック結晶(光局在)
  • フォトニック結晶(磁性)
  • フォトニック結晶の解析(FDTD法)
  • フォトルミネッセンス(ZnO)
  • 843. フォノン閉じ込めモデルによるラマン散乱スペクトル
  • 複合材料(半導体金属)
  • 複屈折(異方性結晶中の光の伝播)
  • 複素数の屈折角(斜め入射の反射)
  • 複素屈折率(鉄、アルミ、銅の)
  • 765. 複素屈折率(チタンの)
  • 797. 複素屈折率(金属)
  • 複素誘電率
  • 腐食(7075アルミニウム合金の焼鈍後の)
  • 不純物準位計算法
  • 849. フタロシアニンの昇華温度
  • 793. 豚レバー(赤外分光特性)
  • 不動態の抵抗(ステンレスの)
  • 不動態膜(化学処理後の高濃度ドープシリコン)
  • 物性値(ナノ領域への適用限界)
  • 833. 負分散ミラー
  • 768. フラットパネルディスプレイと無機材料
  • フラットバンド電圧(MOSFET)
  • ブラウン管(振動)
  • ブラウン管(裏面反射)
  • プラズマエンハンスメント
  • 表面プラズモン共鳴(Mie散乱と)
  • プラズマ振動数(金属の吸収端と)
  • 823. プラズマ周波数(Cr)
  • 832. プラズマポテンシャルとセルフバイアス
  • プラズモン振動数について
  • プラズモン励起(金属微粒子)
  • プラズモン励起について
  • プラズモンとエバネセント波
  • プラズモン増強とエネルギー保存則
  • プラズモン(と有機EL)
  • プリズム(回折格子と)
  • ブリルアン領域
  • フロロシリコン
  • フロロシリコン(耐溶剤性)
  • 分光測定(水を含んだ物質)
  • 分極率の高エネルギー側のふるまい
  • 分光光度計(石英セル)
  • 809. 分光反射率測定(標準白色板を参照試料とした)
  • 分散(と群速度)
  • ヘ:
  • 平均自由行程(CVDラジカルの)
  • 874. ベーテ・スレータ曲線について
  • 763. 変位電流(準定常電流近似と)
  • 偏光状態(1/4波長板の)
  • 853. 偏光性(拡散反射の)
  • 偏光板の劣化について,
  • 偏光板とヨウ素
  • ホ:
  • 737. HoFeO3の相転移温度
  • 方向性鋼板の磁区観察
  • 放射率(YIGの)
  • 宝石
  • 飽和磁化(ニッケル亜鉛フェライトの)
  • 飽和磁束密度(鉄ニッケル(Fe-Ni)合金)
  • 飽和水蒸気量(アルゴンガスの)
  • ポテンシャル(結晶中の)
  • ホトニックバンドギャップ
  • 783. ポリエステル糸(熱伝導性のよい)
  • ポリエチレンの比誘電率
  • ポリエチレンの誘電率(2)
  • ポリブタジエンの伸縮性
  • ポリマーの色と電気伝導
  • 822. ボルタ電池(電子が移動するのか)
  • 821. ポワソン比(アルミ鋳造合金の)
  • ポワソン比ヤとング率(塩化ビニール)
  • ポワソン比(SUS404)
  • 804. ボンディング(アルミ線と銅フレームとの)
  • マ行
  • マ:
  • マイカ(熱不安定性)
  • マイカから発生する白色の煙
  • 773. マイクロ波焼結(金属材料の)
  • 842. マイクロ波加熱(炭素の)
  • マイクロ波反射率(アルミ板)
  • マイクロ波誘電率(温度係数)
  • マイクロ波誘電率と誘電損失(シリコンと酸化チタン)
  • マイクロ波特性(ルチルとアナターゼのちがい)
  • 819. マイクロ波領域の半波長板
  • 摩擦力(スーパーボールがドアの動きを止める)
  • マルテンサイト量の評価(ステンレスにおける)
  • マルテンサイト体積率測定(放射線による)
  • 806. マンガンシリサイドMnSi1.7の格子定数の決定法
  • マンセル明度(と反射率)
  • 曲げ応力(シリコンの)
  • ミ:
  • 802. 豆電球の非線形性
  • Mie散乱と表面プラズモン共鳴
  • 身近にある磁性材料
  • 水(紫外線の減衰)
  • 水の紫外線吸収
  • 827. 真空中での水の凝固(真空中での)
  • 水(赤外吸収)
  • 水の粘性(温度変化)
  • 水を含んだ物質
  • 水の誘電率
  • 水分子の結合角
  • 873. 密着メカニズム(蒸着における母材と金属の)
  • 密度(鉄・銅・真鍮)
  • 密度(鉛)
  • 密度汎関数理論とバンドギャップ
  • ミュラー行列(円二色性の)
  • ミリ波(誘電損失)
  • ム:
  • 768. 無機材料(フラットパネルディスプレイ)
  • 無酸素銅(機械的特性)
  • メ:
  • 明度と反射率(マンセル)
  • 805. メチルジフェニルイソシアネート合成のための反応器の材質
  • めっき材と被めっき材の抵抗
  • 786. メッキの酸化(ニッケル)
  • モ:
  • MOSFETのフラットバンド電圧の評価法
  • モース硬度をショアー硬度に換算出来るか
  • 878. モスアイ構造(反射防止)
  • モーメントの問題
  • モワレ縞
  • モジュラージャックの材料
  • モリブデンの光学定数
  • モリブデンの反射率
  • モリブデン焼結体の粒径
  • モル吸光度から屈折率を求める
  • ヤ行
     
  • ヤ:
  • ヤング率(一般炭素鋼、高温)
  • ヤング率(鋼材の熱処理による変化)
  • ヤング率(アルミ鋳造合金)
  • ヤング率(塩化ビニール)
  • ヤング率とポワソン比(塩化ビニール)
  • ヤング率(SUS404)
  • ヤング率(GaN)
  • ヤング率(コランダム:温度依存性)
  • ヤング率Eの低下(強磁性体の凾d効果)
  • ヤング率(Ta2O3)
  • ヤング率(鉛フリーハンダ)
  •  
  • ユ:
  • 有機ELについて
  • 有機EL(とプラズモン)
  • 有効質量
  • 有効質量(Si半導体中の電子)
  • 誘電泳動現象
  • 誘電正接の大きな素材
  • 誘電体(光の伝搬)
  • 誘電体(を含むコンデンサ)
  • 誘電特性(カーボンブラックの)
  • 誘電率(εr)と損失角(tanδ)(グラファイトの)
  • 誘電率(ITO)
  • 誘電率(In2O3)
  • 誘電率(ウイレマイト)
  • 誘電率(強誘電体)
  • 誘電率(金属)
  • 誘電率の温度依存性(金属)
  • 誘電率(金属、低周波)
  • 誘電率(空気と水)
  • 810. 誘電体(絶縁性)
  • 誘電率(水の)
  • 誘電率(水、氷、雪)
  • 誘電率(酸の水溶液の)
  • 誘電率(周波数分散)
  • 誘電率(二酸化珪素と炭素)
  • 誘電率(薄膜;光学的決定法)
  • 誘電率(半導体)
  • 誘電率(BaTiO3多結晶の)
  • 誘電率(Bi2Te3の)
  • 誘電率(複素)
  • 誘電率(ポリエチレン)
  • 誘電率(ポリエチレン;2)
  • マイクロ波誘電率の温度係数
  • 誘電率(メカニズム)
  • 誘電率(硫化銀)
  • 誘電率(有機溶媒;周波数分散)
  • 誘電損失(なぜ生まれるか)
  • 誘電損失(ミリ波)
  • 誘電損失(カーボン粒子を含むゴム)
  • 夕日の色
  • 夕日の色の謎
  • 輸送中の磁化(鉄製シャフトの)
  •  
  • ヨ:
  • 739. 溶解度ギャップと臨界温度
  • 736. 溶接影響部の靱性
  • 42合金への銀メッキ 
  • ラ行
     
  • ラ:
  • 843. ラマン散乱スペクトル(フォノン閉じ込めモデル)
  • ランダウ準位から電子を取り出すエネルギー
  • ランダム配列(規則配列はなぜ安定か)
  • リ:
  • 858. ランダム偏光から円偏光
  • リーク(配管)の許容値
  • 裏面反射
  • 硫化銀(誘電率)
  • 硫化による断線
  • 粒子性(光)
  • 粒子の運動量(1次元の箱に閉じこめられた粒子)
  • 量子効率(フォトダイオード)
  • リンゴ(なぜ赤い)
  •  
  • ルチル(マイクロ波特性;アナターゼのちがい)
  • レ:
  • 励起子発光
  • 励起子ポラリトン
  • レイリー散乱
  • 766. レーザ高調波のスペクトル幅
  • レジスト回転塗布と広がり方
  • レポート
  • ロ:
  • 870. 路面反射(近赤外線の)
  • ワ行
  • YIGと反射膜
  • YIG(放射率)
  • YIG(コバルト置換)  
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